曝光显影
1、蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类。
早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；此外，由于不存在用于传送调色剂的介质（如磁性载体），因此难以将均匀的传送力施加到调色剂，并且对于调色剂的机械负担在传送等操作期间易于增加。经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。
2、曝光就是光圈、快门和感光度ISO的组合。
其中光圈和速度联合决定进光量，ISO决定ISOCCD/CMOS的感光速度。
3、显影包括正显影和反转显影。
正显影中显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性是相反的，反转显影中感光鼓与色粉电荷极性是相同的。
东莞市清溪利成感光五金厂本厂主要做曝光显影工艺，平面、圆弧面、凹凸面、喷砂1氧2氧阳极、五金丝印.五金腐蚀等产品加工，有多年经验，有需要以上的工艺欢迎您的到来参观和洽谈，可免费打。
保温杯曝光显影设计圆网上胶后，烘干时间过长或温度过高。由于胶层受到烘干时间和温度的影响，胶液发生初步聚台，使原来可溶性的胶层变成不溶性的胶层，在浸水显影时，圆网花纹部分的胶层不能溶解于水而堵塞网孔。因此，烘干时间和温度必须严格控制在规定条件内。
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曝光显影
需要注意的当曝光不足时，由于单体聚合不彻底，在显影过程中，胶膜溶胀变软，线条不清晰，色泽暗淡，甚至脱胶，在蚀刻过程中翘膜、甚至脱落，影响蚀刻加工效果。
但曝光过度时会也会引起显影效果不良，胶膜发脆，留下残胶等弊病。曝光将产生图像线宽的偏差，过量的曝光会使图形线条变细，使产品线条变粗。根据显影后干膜的光亮程度，图像是否清晰，图形线宽是否与原底片相符来确定适当的曝光时间。