PVD技术出现于，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。在高速具领域的成功应用引起了制造业的高度重视，人们在开发、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。与CVD工艺相比，PVD工艺处理温度低，在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响;薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层;PVD工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。当前PVD涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、车刀片、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。
真空离子镀膜与您分享PVD真空镀膜的过程没有想象当中那么容易，而且整个过程的工艺还是比较复杂的，当我们在做的时候，也分为多个不同的原理，想要做到均匀性，也会受到很多因素的影响，在人们做的时候，如何让镀膜变得更均匀，可以从以下这些角度来考虑。
PVD真空镀膜的均匀性，这和厚度有着一定的关系，我们必须要首先保障厚度是均匀的。在整个光学薄膜的尺度上来看，选择这种方式来进行镀膜，看起来就会更加的均匀，能够更好的减少粗糙的感觉。但如果我们用更小的尺度来进行衡量，确实也会存在着一些不平等的情况。对于均匀性的衡量，不同的衡量尺度，终所得到的结论都会存在着或多或少的差异，这需要根据我们所使用的领域来作出判断。