天津硅片除气装置公司诚信企业「科创真空」离不开你原唱

真空除气储存柜的加热系统

1、加热区尺寸：定制

2、加热功率：30-80 KW（实际功率可调）

3、加热元件：钼片

4、隔热组件：钼+不锈钢

5、温度测量：S型热电偶

6、控温精度：±1℃

7、升温速率 ：由室温升至1000℃小于80min（空载）

8、加热室：采用圆筒形加热室结构。隔热屏采用多层钼结构，各层之间采用99刚玉陶瓷，发热体为钼片，钼片均匀环绕在隔热屏周围，实现良好的温度均匀性。具有使用寿命长、隔热保温性能好、真空放气量较少。外框使用不锈钢（310S）板材料，并且焊接多道加强筋以保证不变形。

9、加热控制：采用PID智能控温模块设计，可编辑30+段升温曲线，存贮20+组工艺配方，组合PLC等实现超压、超温、过流等自动报警保护功能，10寸液晶触摸屏显示操作，具有操作方便，功能强大，稳定性好等特点。

真空除气储存柜的放置

本机台不要放置在阳光直射或环境温度过高的地方，环境温度是5-35℃，环境湿度是35%~65%的相对湿度；且要保持放置处长期通风良好的位置。使用前注意电压是否正确，仅适用机台上所标示之电压，避免电过量，而使电线走火．请勿置于潮湿之场所，请勿直接用水冲洗，以防漏电；

请小心将物品放入机台，关上箱门，检查是否密闭。试验结速后，站侧面打开箱门，以免热气烫到面部。

高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可高达10-7Pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点：

①　极限真空度高；

②　控温精度高；

③　更高的升温速率；

④　更加智能化；

⑤　可真空去除产品空洞与气泡；

⑥　降低产品的氧化性；

⑦　提高工艺室的洁净度。

真空除气炉、真空存储柜的质保

设备是一种可以提供真空环境的储存设备，分为上中下三层箱室，均可独立工作。

设备自正式验收合格之日起整机免费保修12个月。免费保修的范围包括：（1）在正常情况下，在保修期间内非人为因素引起的一切设备质量问题和自然磨损；（2）备品备件清单，供方提供备品备件清单上所列的备件各一套。（3）在保修期内由需方使用不当造成的维修，只收需方的材料费。